超聲波技術背景：

    超聲波清洗劑技術最早出現(xiàn)在20世紀30年代初。當時，位于美國新澤西州的美國無線電公司實驗室的技術人員試圖用自制的簡單超聲波清洗系統(tǒng)清洗某些物體，但實驗失敗。當時使用的超聲波工作頻率在20~40kHz之間。這范圍內的超聲波應用于數(shù)千種不同的工作場合，其中許多是其他清洗方法不能很好地發(fā)揮作用的場合。然而，在某些情況下，超聲波強大的能量也會損壞粘結污垢和脆弱的基材。在過去的十年里，超聲波領域出現(xiàn)了一些技術創(chuàng)新，提高了去除敏感基礎上污垢的安全系數(shù)。因此，對工件施加很大的能量，特別適合清除附著在基底上的污垢。談到超聲波技術，特別是中高頻超聲波清洗技術有了新的發(fā)展，成為行業(yè)的亮點。

     近年來，人們發(fā)現(xiàn)使用兆聲波(根據(jù)超聲波的頻率不同，40kHz及以下稱為常規(guī)或低頻超聲波，1000kHz以上稱為高頻超聲波，也稱為兆頻超聲波，簡稱兆聲波)清洗可以去除半導體材料表面的超細污垢顆粒，不會損傷基底材料表面。目前，該技術已迅速普及。